ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ HEC, HPMC, CMC, PAC, MHEC ಮತ್ತು ಮುಂತಾದವು ಸೇರಿವೆ. ಅಯಾನಿಕ್ ಅಲ್ಲದ ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಪ್ರಸರಣ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಕಟ್ಟಡ ಸಾಮಗ್ರಿಗಳಿಗೆ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಸಂಯೋಜಕವಾಗಿದೆ. HPMC, MC ಅಥವಾ EHEC ಯನ್ನು ಸಿಮೆಂಟ್ ಅಥವಾ ಮರಳಿನ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಕಲ್ಲಿನ ಗಾರೆ, ಸಿಮೆಂಟ್ ಗಾರೆ, ಸಿಮೆಂಟ್ ಲೇಪನ, ಜಿಪ್ಸಮ್, ಸಿಮೆಂಟಿಯಸ್ ಮಿಶ್ರಣ ಮತ್ತು ಹಾಲಿನ ಪುಟ್ಟಿ ಮುಂತಾದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಆಧಾರಿತ ಅಥವಾ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಆಧಾರಿತ ನಿರ್ಮಾಣಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮತ್ತು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್, ಟೈಲ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಮತ್ತು ಪುಟ್ಟಿಗೆ ಬಹಳ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ. HEC ಯನ್ನು ಸಿಮೆಂಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ರಿಟಾರ್ಡರ್ ಆಗಿ ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ನೀರನ್ನು ಉಳಿಸಿಕೊಳ್ಳುವ ಏಜೆಂಟ್ ಆಗಿಯೂ ಸಹ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. HEHPC ಸಹ ಈ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.
ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಪ್ರೊಪಿಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ HPMC ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ಅನೇಕ ಭೌತಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ವಿವಿಧ ಉಪಯೋಗಗಳು ಮತ್ತು ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಅನನ್ಯ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಾಗಿ ಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತವೆ:
ನೀರಿನ ಧಾರಣ: ಇದು ಗೋಡೆಯ ಸಿಮೆಂಟ್ ಬೋರ್ಡ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇಟ್ಟಿಗೆಗಳಂತಹ ಸರಂಧ್ರ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ನೀರನ್ನು ಉಳಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.
ಫಿಲ್ಮ್-ರೂಪಿಸುವಿಕೆ: ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಗ್ರೀಸ್ ಪ್ರತಿರೋಧದೊಂದಿಗೆ ಪಾರದರ್ಶಕ, ಕಠಿಣ ಮತ್ತು ಮೃದುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ರಚಿಸಬಹುದು.
ಸಾವಯವ ಕರಗುವಿಕೆ: ಉತ್ಪನ್ನವು ಕೆಲವು ಸಾವಯವ ದ್ರಾವಕಗಳಲ್ಲಿ ಕರಗುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಎಥೆನಾಲ್ / ನೀರು, ಪ್ರೊಪನಾಲ್ / ನೀರು, ಡೈಕ್ಲೋರೋಥೇನ್ ಮತ್ತು ಎರಡು ಸಾವಯವ ದ್ರಾವಕಗಳಿಂದ ಕೂಡಿದ ದ್ರಾವಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆ.
ಥರ್ಮಲ್ ಜಿಲೇಶನ್: ಉತ್ಪನ್ನದ ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡಿದಾಗ, ಜೆಲ್ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಣ್ಣಗಾದಾಗ ರೂಪುಗೊಂಡ ಜೆಲ್ ಮತ್ತೆ ದ್ರಾವಣವಾಗಿ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಮೇಲ್ಮೈ ಚಟುವಟಿಕೆ: ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಎಮಲ್ಸಿಫಿಕೇಶನ್ ಮತ್ತು ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಕೊಲೊಯ್ಡ್ಗಳನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಪರಿಹಾರದಲ್ಲಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ, ಜೊತೆಗೆ ಹಂತದ ಸ್ಥಿರೀಕರಣವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.
ಅಮಾನತು: ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಪ್ರೊಪಿಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಘನ ಕಣಗಳು ನೆಲೆಗೊಳ್ಳುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಕೆಸರುಗಳ ರಚನೆಯನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ.
ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಕೊಲಾಯ್ಡ್‌ಗಳು: ಹನಿಗಳು ಮತ್ತು ಕಣಗಳು ಒಗ್ಗೂಡುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಹೆಪ್ಪುಗಟ್ಟುವಿಕೆಯಿಂದ ತಡೆಯುತ್ತದೆ.
ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗುವ: ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ವಿವಿಧ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗಿಸಬಹುದು, ಗರಿಷ್ಠ ಸಾಂದ್ರತೆಯು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯಿಂದ ಮಾತ್ರ ಸೀಮಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.
ಅಯಾನಿಕ್ ಅಲ್ಲದ ಜಡತ್ವ: ಉತ್ಪನ್ನವು ಅಯಾನಿಕ್ ಅಲ್ಲದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಆಗಿದ್ದು ಅದು ಕರಗದ ಅವಕ್ಷೇಪಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಲೋಹದ ಲವಣಗಳು ಅಥವಾ ಇತರ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸುವುದಿಲ್ಲ.
ಆಸಿಡ್-ಬೇಸ್ ಸ್ಥಿರತೆ: PH3.0-11.0 ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಬಳಕೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
ಪೋಸ್ಟ್ ಸಮಯ: ಸೆಪ್ಟೆಂಬರ್-22-2022